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1、涂层膜厚测试仪原理
原理：一个半径精确已知的磨球由自身重力作用于镀膜试样表面并进行自转。在测试过程中，磨球与试样的相对位置以及施加于试样的压力保持恒定。
磁感应测量原理：利用从测量头通过非铁磁性涂层流入铁磁基体的磁通量来测量涂层厚度。也可以测量相应的磁阻，以表示涂层厚度。涂层越厚，磁阻越大，磁通量越小。
下面列出几个常见的原理：磁引力精确测量原理：永磁体（探头）与导磁钢之间的引力大小与它们之间的距离成正比，即涂层的厚度。
涂层测厚仪采用电磁感应法测量涂层的厚度。位于部件表面的探头产生一个闭合的磁回路，随着探头与铁磁性材料间的距离的改变，该磁回路将不同程度的改变，引起磁阻及探头线圈电感的变化。
2、膜厚测试仪的萤光X射线装置(XRF)
萤光X射线（2） 散乱X射线（3） 透过X射线的产品是利用萤光X射线得到物质中的元素信息（组成和镀层厚度）的萤光X射线法原理。和萤光X射线分析装置一样被使用的X射线衍射装置是利用散乱X射线得到物质的结晶信息（构造）。
XRF镀层测厚仪是一种基于X射线荧光原理的涂层厚度测量仪器。其基本原理如下：X射线发射：XRF镀层测厚仪内置的X射线源发射X射线，X射线穿过待测涂层并作用于样品下方的探测器。
单纯地看也许会认为能知道结晶状态的X射线衍射装置（XRD）为好，但当测定含多种化合物的物质时只用衍射装置（XRD）就很难判定，必须先用萤光X射线装置（XRF）得到元素信息后才能进行定性。
X荧光膜厚仪是一种用于测量材料表面涂层厚度和元素成分的设备。它是基于X射线荧光技术（XRF）和能量色散X射线谱（EDXRF）技术开发而来。
3、什么是膜厚仪
XRF镀层测厚仪是一种基于X射线荧光原理的涂层厚度测量仪器。其基本原理如下：X射线发射：XRF镀层测厚仪内置的X射线源发射X射线，X射线穿过待测涂层并作用于样品下方的探测器。
X荧光膜厚仪是一种用于测量材料表面涂层厚度和元素成分的设备。它是基于X射线荧光技术（XRF）和能量色散X射线谱（EDXRF）技术开发而来。
膜厚测试仪，分为手持式和台式二种，手持式又有磁感应镀层测厚仪，电涡流镀层测厚仪，荧光X射线仪镀层测厚仪。手持式的磁感应原理时，利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小，来测定覆层厚度。
如果是从电镀测厚角度来说是一样的，膜厚仪也叫做镀层测厚仪，如下图；涂层测厚仪是一种用于测量样品表面涂层或薄膜厚度的设备，通常可以根据不同的测量原理和应用场景测量不同类型的涂层。
4、膜厚仪与涂层测厚仪的差别
如果是从电镀测厚角度来说是一样的，膜厚仪也叫做镀层测厚仪，如下图；涂层测厚仪是一种用于测量样品表面涂层或薄膜厚度的设备，通常可以根据不同的测量原理和应用场景测量不同类型的涂层。
涂层测厚仪属于无损检测，不破坏表面涂层油漆层。
涂层测厚仪：主要采用的是电磁感应法来测量涂层的厚度。涂层测厚仪会在部件表面的探头处产生一个闭合的磁回路，伴随着探头与铁磁性材料之间距离的变化，该磁回路将会发生不同程度的改变，因此会引起磁阻及探头线圈电感的变化。
镀层测厚仪和涂层测厚仪的主要区别在于它们所测量的对象和测量原理的不同。以下是它们之间的主要区别：测量对象：镀层测厚仪主要测量金属表面上的镀层厚度，如镀金、镀银、镀镍等。
5、膜厚测试仪的介绍
XRF镀层测厚仪是一种基于X射线荧光原理的涂层厚度测量仪器。其基本原理如下：X射线发射：XRF镀层测厚仪内置的X射线源发射X射线，X射线穿过待测涂层并作用于样品下方的探测器。
测厚仪是一种用于测量样品表面涂层或薄膜厚度的设备，具体测量方法有以下几种：磁性测厚法：适用于导磁材料上的非导磁涂层厚度测量，如钢铁、铜、铝等金属材料上的涂层或薄膜厚度。
X荧光膜厚仪是一种用于测量材料表面涂层厚度和元素成分的设备。它是基于X射线荧光技术（XRF）和能量色散X射线谱（EDXRF）技术开发而来。
据百度介绍立仪科技膜厚仪的特点是：高速度、高精度测量系统。 最大160mm*160mm范围自动测量。 重复测量精度≦0.5m。 适用高反光、高透光材料。 数据重复测量的一致性。
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